Theris Nanotechnology, spezialisiert auf Anlagen zur Abscheidung von UHV-Nanopartikeln, nutzt die Gaskondensation größenklassierter Nanopartikel im Vakuum zur Herstellung kontaminationsfreier Schichten. In den Theris-Quellen NanoStreamS und NanoStreamT werden die Nanopartikel mittels des Verfahrens der „terminierten Gaskondensation“ erzeugt. Dabei wird das Targetmaterial mit einem DC-Magnetron gesputtert. Die gesputterten Atome gelangen in die Hochdruck-Kondensationszone, wo ihre mittlere freie Weglänge sehr schnell abnimmt und sie thermalisieren. Nanopartikel bilden sich, während diese thermalisierten Atome in Richtung der Expansionszone wandern.
Die erzeugten Nanopartikel lassen sich elektrostatisch durch Ablenkung, Fokussierung oder Beschleunigung manipulieren, wodurch eine Vielzahl von Beschichtungsmorphologien entsteht – von Nanopartikelpulver über poröse Filme mit extrem großer Oberfläche bis hin zu kristallinen Strukturen. Es können Nanopartikel mit nur 30 Atomen bis hin zu solchen mit Durchmessern nahe 20 nm erzeugt werden.
Die Größe der mit Hilfe der Nanostream-Quellen erzeugten Nanopartikel kann mithilfe des optionalen Quadrupol-Massenfilters MSF, der speziell für Partikel mit hoher Masse entwickelt wurde, bestimmt und weiter verfeinert werden. Der MSF-Massenfilter kann in Verbindung mit den NanoStream-Quellen eingesetzt werden, um den Nanopartikelstrahl zu analysieren und weiter zu filtern.
NanoShell – Die Core-Shell-Quelle ermöglicht die Beschichtung von in unseren NanoStream-Quellen erzeugten Nanopartikeln mit einem zweiten Material, um eine Kern-Schale-Nanopartikelstruktur zu erzeugen.
Die NanoShell befindet sich zwischen der NanoStream-Quelle und der Beschichtungskammer. Sie nutzt Verzögerungsfelder, um die Verweilzeit der Partikel in der Beschichtungskammer zu verlängern und so eine Kern-Schale-Partikelstruktur zu erzeugen.
Die Theris-RF-Atomquellen TAS30 und TAS60 sind vollständig UHV-kompatibel und für anspruchsvollste Anwendungen konzipiert. Die koaxiale RF-Spule ist für die Leistungsübertragung in die Plasmazone optimiert und bietet eine vollständige Kopplung über die gesamte Spulenlänge. Dies gewährleistet eine gleichmäßige Dissoziation und einen maximalen Atomfluss. Die Stützen sind weit von der Spule entfernt, wodurch ein versehentlicher Kontakt mit der HF-Spule, wie er bei anderen Konstruktionen häufiger vorkommt, ausgeschlossen wird.
Die Entladungszone besteht ausschließlich aus hochwertigen Materialien. Anwender können den optimalen Gasfluss durch die Auswahl verschiedener Endplatten definieren, die bei Bedarf weiter angepasst werden können. Die Quelle verfügt standardmäßig über eine Konfiguration ohne Ionenstrom, bei der Ablenkplatten verbleibende Ionen aus dem Strahl ausstoßen.
Kundenspezifische Systeme für die Nanopartikelabscheidung
Theris bietet nicht nur Komponenten für die UHV-Abscheidung an, sondern auch komplette Systemkonfigurationen. So stellen wir sicher, dass Ihre Anlage exakt auf Ihre Bedürfnisse zugeschnitten ist.
